2005年9月14日〜2005年9月16日に横浜の慶應義塾大学矢上キャンパスにて行われた第44回
日本油化学会年会において　　　　　 　が発表を行いました。
黒田章裕
予稿集(PDFファイル)
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発表の演題は
Mechanism of Spontaneous Formation of Spatially Periodic Uneven Structure by Dewetting
および
Spontaneous Formation of Stripe Pattern by Fingering Instability for the Preparation of Water-Repellent Surface
の２件です。
以下に発表の概要とこの技術の応用性について示します。
我々は化粧品の紫外線吸収剤として使われているパラメトキシケイ皮酸オクチルとオクチルシリル化処理微粒子酸化チタン(平均一次粒子径35nm)からなる2成分系において、周期的凹凸構造が形成されることを既に見いだしていましたが、今回これがSpinodal Dewetting によるものと考えられること、そして膜厚依存的に凹凸の周期が変化することを示しました。Fig．１は膜厚により周期構造がどのように変化していくかを電顕写真で示したものです。膜厚が厚くなるに従って、構造が形成されにくくなっており、かつ凹凸の周期が大きくなっていることが判ります。また、オクチルシリル化処理微粒子酸化チタンの配合比率により、構造が樹枝状からドット状に変化していく様子が見れます。
 
Ｆｉｇ．１ 膜厚による周期凹凸構造の変化
膜厚
0.050 
0.100
0.200
注）膜厚の単位はmg/平方cm。但し、デカメチルシクロペンタシロキサン97ｗｔ％溶液としての塗工量。
溶液中のオクチルシリル化処理微粒子酸化チタンとパラメトキシケイ皮酸オクチルの比率
8：2
7：3
6：4
5：5
4：6
3：7
2：8
(投稿　2005.09.28)